سینتیک رسوب الکترولیتی نیکل از کمپلکس ان بوتیل آمین در حلال آروماتیک آنیسول – فنانترون - TBABF4 | ||
| مهندسی مکانیک مدرس | ||
| Article 2, Volume 1, Issue 1, 1380, Pages 11-23 PDF (264 K) | ||
| Authors | ||
| محمدرضا قضاوی* ; مهدی مقصودی | ||
| دانشگاه تربیت مدرس | ||
| Abstract | ||
| سینتیک جوانه زنی و رشد رسوب فلزی از کمپلکس ان بوتیل آمین حاوی کلرید نیکل با الکترولیت تترابوتیل آمونیوم تترافلوئوروبرات حل شده در آنیسول حاوی 15 درصد مولی فنانترن بر صفحه های مسی و پلاتینی به شیوه ولتامتری چرخه ای، کرنو آمپرمتری و بیناب نگاری امپدانس الکتروشیمیایی مورد تحقیق قرار گرفت. نتایج به دست آمده نشانگر تبلور الکتروشیمیایی سه بعدی به شکل جوانه زنی لحظه ای همراه با رشد تحت کنترل نفوذ کریستالهای نیکل بود. بررسیها نشانگر برگشت ناپذیر بودن واکنش تشکیل رسوب با سرعت ثابت ویژه cm/sec 3-10×1.4- 1 برای کریستالیزاسیون فلز نیکل روی کاتد مسی و cm/sec 3-10×5.4- 1.8 برای کریستالیزاسیون فلز نیکل روی کاتد پلاتینی بود. ضریب نفوذ نیکل در محلول الکترولیت آروماتیک برای کریستالیزاسیون نیکل روی مس در محدوده cm2/sec 6-10×2.8- 2.2 و برای کریستالیزاسیون نیکل روی پلاتین در محدوده cm2/s 6-10×1.8- 1.2 بود. به نظر می رسد مقادیر نسبتا کوچک ضریب نفوذ و سرعت واکنش، متاثر از کمپلکس شدن یون نیکل محلول با لیگاندهای حجیم باشد. | ||
| Keywords | ||
| ندارد | ||
|
Statistics Article View: 3,065 PDF Download: 4,141 |
||
| Number of Journals | 45 |
| Number of Issues | 2,171 |
| Number of Articles | 24,674 |
| Article View | 24,415,890 |
| PDF Download | 17,544,472 |